Метод двухфотонной литографии использован для изготовления оптических микроструктур с гра- диентом показателя преломления. На примере параллелепипедов, при печати которых используют- ся заданные линейное или гауссово пространственные распределения мощности лазерного излуче- ния, показана принципиальная возможность локально изменять показатель преломления на вели- чину до 0.03. Предложенный метод перспективен для создания микрооптических элементов.