Двухфотонная лазерная литография (ДЛЛ) позволяет осуществлять 3д-печать из полимерных материалов на микромасштабах с разрешением до 50 нм. По сравнению с традиционно используемой для создания фотонных элементов кремниевой литографии, она даёт возможность создавать истинно трёхмерные структуры. Это позволяет сделать фотонный чип не плоским, а объёмным, и получить выигрыш в производительности на единицу площади вычислительного аппарата.

Для того, чтобы эффективно производить вычисления при помощи оптических сигналов, этими сигналами необходимо эффективно управлять — контролировать распространение при помощи волноводов, заводить в волноводы излучение посредством решёток заведения и призм, разделять сигналы и.т.д. в нашей лаборатории мы создаём элементы фотонных схем, которые позволяют проводить все эти манипуляции при помощи ДЛЛ.

Для проведения вычислений, однако, необходим какой-нибудь элемент, который позволяет управлять амплитудой, фазой или длиной волны излучения. В качестве таких элементов удобно использовать микрорезонаторы или интерферометры Маха-Цандера, которые также мы изготавливаем при помощи ДЛЛ в нашей лаборатории. Комбинации всех этих элементов позволяют создавать и искусственные нейроны, что, в свою очередь, открывает возможности для разработки полимерных нанофотонных нейроморфных чипов.

Ещё одним ключевым преимуществом метода является то, что все элементы, необходимые для функционирования фотонной вычислительной схемы, производятся на одной установке без необходимости куда-либо переносить изготовляемый чип. Это позволяет быстро и точно создавать схемы любой сложности.